CMP鑽石碟- Pad Conditioners

三鑫精密科技股份有限公司歷經多年研發，榮獲多項製程專利。並首創『三度空間排列』設置鑽石調節器的製造技術，具有一致性超強粗糙度處理能力，使CMP研磨墊調節器穩定性更為提升。它能將研磨墊調節成具有均勻承壓值的細緻性粗糙彈性面體，能確實活化研磨墊應用功能，使研磨液能快速均勻分佈，以提昇晶圓材料移除率與平整性、遽降缺陷率，使CMP作業在較低成本運作下更為平準順暢。

『三度空間排列』專利製造技術有多樣化的粗糙度處理佈置方式，能縮短研發的寶貴時程，並可依需求提供快速、精準的產品。

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